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Microscopio electrónico de barrido con haz de iones enfocado | DB500

CIQTEK DB500 es un microscopio electrónico de barrido por emisión de campo con una columna de haz de iones enfocado para nanoanálisis y preparación de muestras, que se aplica con tecnología “SuperTunnel”, baja aberración y diseño de lente objetivo libre de magnetismo, con bajo voltaje y alta resolución. capacidad que asegura su capacidad analítica a nanoescala. La columna de iones facilita una fuente de iones de metal líquido Ga+ con un haz de iones altamente estable y de alta calidad para garantizar la capacidad de nanofabricación.

DB500 está equipado con un nanomanipulador integrado, un sistema de inyección de gas, un mecanismo eléctrico anticontaminación para la lente del objetivo y 24 puertos de expansión, lo que lo convierte en una plataforma integral de nanoanálisis y fabricación con configuraciones integrales y capacidad de expansión.

Supertúnel
Haz de iones de galio
Completamente configurado

Sistema de inyección de gas
Manipulador integrado
Excelente garantía

• Tecnología de óptica electrónica “SuperTunnel” con lente objetivo libre de magnetismo, adecuada para imágenes de alta resolución y compatible con imágenes de muestras magnéticas.

• La columna de haz de iones enfocado que genera un haz de iones altamente estable y de alta calidad, adecuado para nanofabricación de alta calidad y preparación de muestras TEM.

• Un manipulador accionado piezoeléctricamente ubicado en la cámara de muestras con un sistema de control integrado para un manejo preciso.

• Sistema desarrollado independientemente con fuerte capacidad de expansión. El diseño del conjunto de fuente de iones integrado para un rápido intercambio de fuentes de iones. Excelente servicio, respaldado por una garantía incluida de tres años.

Columna de haz de iones enfocados

Resolución: 3 nm@30 KV

Corriente de la sonda (rango de corriente del haz de iones): 1 pA~50 nA

Rango de voltaje de aceleración: 500 V~30 kV

Intervalo de intercambio de fuente de iones: ≥1000 horas

Estabilidad: 72 horas de funcionamiento ininterrumpido

Nanomanipulador

Cámara montada internamente

Accionamiento totalmente piezoeléctrico de tres ejes

Precisión del motor paso a paso ≤10 nm

Velocidad máxima de desplazamiento 2 mm/s

Control integrado

Colaboración entre haces de iones y haces de electrones

Sistema de inyección de gas

Diseño SIG único

Hay varias fuentes de precursores de gas disponibles.

Distancia de inserción de la aguja ≥35 mm

Repetibilidad del movimiento ≤10 μm

Repetibilidad del control de temperatura de calefacción ≤0,1°C

Rango de calentamiento: temperatura ambiente ~ 90°C

Control integrado

Sistema de haz de electrones	Tipo de pistola de electrones	Pistola de electrones de emisión de campo Schottky de alto brillo
	Resolución	1,2 nm a 15 kV
	Voltaje de aceleración	20 V~30 kV
Sistema de haz de iones	Tipo de fuente de iones	Fuente de iones de galio líquido
	Resolución	3 millas náuticas a 30 kV
	Voltaje de aceleración	500 V ~ 30 kV
Cámara de muestras	Sistema de vacío	Control completamente automático, sistema de vacío sin aceite.
	Cámaras	Tres cámaras (Navegación óptica + monitor de cámara x2)
	Tipo de etapa	Etapa de muestra eucéntrica mecánica de 5 ejes
	Rango de escenario	X=110 mm, Y=110 mm, Z=65 mm T: -10°~+70°, R:360°
Detectores y Extensiones	Estándar	Detector en lente Detector Everhart-Thornley (ETD)
Detectores y Extensiones	Opcional	Detector retráctil de electrones retrodispersados (BSED) Detector de microscopía electrónica de transmisión de barrido retráctil (STEM) Espectrómetro de dispersión de energía (EDS) Patrón de difracción de retrodispersión de electrones (EBSD) Nanomanipulador Sistema de inyección de gas Limpiador de plasma Bloqueo de carga de intercambio de muestras Panel de control con trackball y perilla
Software	Idiomas	Inglés
	Sistema operativo	ventanas
	Navegación	Nav-Cam, navegación rápida por gestos
	Funciones automáticas	Brillo y contraste automáticos, enfoque automático, estigmador automático

Vídeo: CIQTEK DB500 (microscopio electrónico de barrido de doble haz)

Hilo de Oro
30 kV / 800X / ETD
Chip CI 1
1 kV / 1500X / ETD
Chip CI 2
1 kV / 15000X / ETD

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