Tiempo de permanencia 10 ns/píxel, velocidad máxima de adquisición de imágenes 2*100 M píxeles/s
Alta velocidad Emisión de campo totalmente automatizada Microscopio electrónico de barrido Puesto de trabajo
CIQTEK HEM6000 tecnologías de instalaciones como el cañón de electrones de corriente de haz grande de alto brillo, sistema de deflexión de haz de electrones de alta velocidad, desaceleración de etapa de muestra de alto voltaje, eje óptico dinámico y lente objetivo combinado electromagnético y electrostático de inmersión para lograr una adquisición de imágenes de alta velocidad al tiempo que se garantiza una resolución a escala nanométrica.
El proceso de operación automatizada está diseñado para aplicaciones como un flujo de trabajo de imágenes de alta resolución de áreas extensas más eficiente e inteligente. Su velocidad de captura de imágenes es cinco veces mayor que la de un microscopio electrónico de barrido por emisión de campo (FESEM) convencional.
Tiempo de permanencia 10 ns/píxel, velocidad máxima de adquisición de imágenes 2*100 M píxeles/s
HEM6000-Semi | HEM6000-Bio | HEM6000-Lit |
Bajo voltaje y alta resolución | Bajo voltaje y alta resolución | Operación simplificada |
Gran campo de visión | Diversos algoritmos automatizados para el campo biológico | Abundantes opciones de selección |
Algoritmos especialmente optimizados para una fácil alineación de muestras altamente repetitivas | Detector de EEB optimizado para aplicaciones biológicas | Flujo de trabajo automatizado de alta velocidad |
Deflexión electrostática de cinco etapas | Sistema de reconstrucción biológica 3D |
Resultado | HEM6000 | SEM de emisión de campo convencional |
Tamaño de píxel (fotograma único) | 8192 * 8192 | |
Tiempo de píxel | 120 ns (punto/línea/fotograma: promedio 6/2/1) | 800 ns |
Tamaño del píxel | 16 nm | |
Campo total cubierto | 2 milímetros 2 | |
Tiempo total de adquisición | 25 minutos y 32 segundos. | > 140 minutos |
Microscopio SEM de alta velocidad CIQTEK HEM6000 |
Dentro de la fábrica de CIQTEK: Recorrido por la fabricación de microscopios electrónicos |
Especificaciones del microscopio SEM de alta velocidad CIQTEK HEM6000 | HEM6000-Semi | HEM6000-Bio | HEM6000-Lite | |
Óptica electrónica | Resolución | 1,5 nm a 1 kV SE | 1,8 nm a 1 kV BSE | 1,5 nm a 15 kV BSE |
Voltaje de aceleración | 0,1 kv~6 kV (modo de desaceleración) | 6 kV~30 kV (modo sin desaceleración) | 6 kV ~ 30 kV | |
Aumento | 66~1.000.000x | |||
Cañón de electrones | Cañón de electrones de emisión de campo Schottky de alto brillo | |||
Tipo de lente objetivo | Lente objetivo combinada electromagnética y electrostática de inmersión | |||
Deflector electrostático | Cinco etapas | Cuatro etapas | Cuatro etapas | |
Sistema de carga de muestras | Sistema de vacío | Sistema de vacío totalmente automático sin aceite | ||
Monitoreo de muestras | Cámara de monitoreo de cámara principal horizontal; cámara de monitoreo de cámara de carga de intercambio de muestra vertical | |||
Tamaño máximo de la muestra | 4 pulgadas de diámetro | |||
Tipo de platina de muestra | Platina de muestra motorizada de 3 ejes (*placa de muestra accionada piezoeléctricamente opcional) | |||
Etapa de muestra de recorrido | X, Y: 110 mm; Z: 16 mm | |||
Repetibilidad de la etapa de muestra | X: ±0,6 μm; Y: ±0,3 μm | |||
Intercambio de muestras | Completamente automático | |||
Duración del intercambio de muestras | <15 minutos | |||
Limpieza de la cámara de carga | Sistema de limpieza de plasma completamente automático | |||
Adquisición y procesamiento de imágenes | Tiempo de permanencia | 10 ns/píxel | ||
Velocidad de adquisición | 2*100 M píxeles/s | |||
Tamaño de la imagen | 16 K*16 K | |||
Detector y accesorios | Detector de electrones retrodispersados retráctil de ángulo bajo | Opcional | Ninguno | Estándar |
Detector de electrones retrodispersados de ángulo bajo, montaje inferior | Opcional | Estándar | Ninguno | |
Detector de electrones general en columna | Estándar | Opcional | Opcional | |
Detector de electrones retrodispersados de alto ángulo en columna | Opcional | Opcional | Opcional | |
Platina de muestra accionada piezoeléctricamente | Opcional | Opcional | Opcional | |
Modo de campo de visión amplio de alta resolución (SW) | Opcional | Ninguno | Ninguno | |
Sistema de limpieza por plasma de cámara Loadlock | Opcional | Opcional | Opcional | |
Sistema de carga de muestras de 6 pulgadas | Opcional | Opcional | Opcional | |
Plataforma antivibración activa | Opcional | Opcional | Opcional | |
Reducción de ruido de aluminio; unión de campos de área grande; reconstrucción 3D | Opcional | Opcional | Opcional | |
Interfaz de usuario | Idioma | Inglés | ||
Sistema operativo | Ventanas | |||
Navegación | Navegación óptica, navegación por gestos | |||
Función automática | Reconocimiento automático de muestras, selección automática del área de imagen, brillo y contraste automáticos, enfoque automático, estigmatizador automático |