CIQTEK y Beyond Nano expondrán conjuntamente en IMRC 2025 en México
CIQTEK y Beyond Nano expondrán conjuntamente en IMRC 2025 en México
July 29, 2025
CIQTEK se enorgullece de anunciar nuestra exposición conjunta con
nuestro
socio mexicano
, Beyond Nano, en el próximo
Congreso Internacional de Investigación de Materiales (IMRC) 2025
, que tiene lugar desde
Del 17 al 21 de agosto
en
Cancún
, México
.
Como evento internacional clave en el campo de la ciencia de los materiales, el IMRC reúne a investigadores e innovadores líderes de todo el mundo. CIQTEK y Beyond Nano serán coanfitriones.
Stand 15 (Piso 1)
para mostrar una gama de instrumentos científicos avanzados que apoyan la caracterización de materiales y facilitan avances en la investigación.
En exhibición en el stand:
Serie CIQTEK SEM
Imágenes de alta resolución con versatilidad analítica para análisis de nanoestructuras y superficies.
CIQTEK
Espectrómetro de RMN
Espectrómetros de RMN de estado líquido inteligentes de próxima generación para la identificación de la estructura molecular.
Analizadores de área superficial y porosidad BET
:Soluciones confiables para caracterizar materiales porosos, catalizadores y electrodos de batería.
Esta colaboración refleja la creciente presencia de CIQTEK en
América Latina
y nuestro compromiso compartido con Beyond Nano de proporcionar herramientas de investigación de vanguardia a instituciones y laboratorios locales.
¡Damos una cálida bienvenida a investigadores, socios y asistentes para que nos visiten en el stand y exploren cómo las soluciones CIQTEK están potenciando la innovación en la ciencia de los materiales!
Ultraalta resolución Microscopio electrónico de barrido con filamento de tungsteno El CIQTEK SEM3300 Microscopio electrónico de barrido (SEM) Incorpora tecnologías como la óptica electrónica de "supertúnel", detectores de electrones en la lente y lentes de objetivo compuestas electrostáticas y electromagnéticas. Al aplicar estas tecnologías al microscopio de filamento de tungsteno, se supera el límite de resolución de este tipo de microscopio electrónico de barrido (MEB), lo que permite realizar análisis de bajo voltaje que antes solo se podían realizar con MEB de emisión de campo.
Microscopio electrónico de barrido de emisión de campo con haz de iones enfocado Ga+ El Microscopio electrónico de barrido de haz de iones enfocado CIQTEK DB550 (FIB-SEM) Cuenta con una columna de haz de iones enfocado para el nanoanálisis y la preparación de muestras. Utiliza tecnología de óptica electrónica de "supertúnel", baja aberración y diseño de objetivo no magnético, y cuenta con la característica de "bajo voltaje y alta resolución" para garantizar sus capacidades analíticas a escala nanométrica. Las columnas de iones facilitan una fuente de iones metálicos líquidos Ga+ con haces de iones de alta estabilidad y calidad para garantizar la nanofabricación. La DB550 es una estación de trabajo integral de nanoanálisis y fabricación con un nanomanipulador integrado, un sistema de inyección de gas y una interfaz gráfica de usuario intuitiva.
Alta velocidad Emisión de campo totalmente automatizada Microscopio electrónico de barrido Puesto de trabajo CIQTEK HEM6000 tecnologías de instalaciones como el cañón de electrones de corriente de haz grande de alto brillo, sistema de deflexión de haz de electrones de alta velocidad, desaceleración de etapa de muestra de alto voltaje, eje óptico dinámico y lente objetivo combinado electromagnético y electrostático de inmersión para lograr una adquisición de imágenes de alta velocidad al tiempo que se garantiza una resolución a escala nanométrica. El proceso de operación automatizada está diseñado para aplicaciones como un flujo de trabajo de imágenes de alta resolución de áreas extensas más eficiente e inteligente. Su velocidad de captura de imágenes es cinco veces mayor que la de un microscopio electrónico de barrido por emisión de campo (FESEM) convencional.
Microscopía electrónica de barrido por emisión de campo de ultraalta resolución (FESEM) El CIQTEK SEM5000X Es un FESEM de ultraalta resolución con un diseño optimizado de columna de óptica electrónica, que reduce las aberraciones generales en un 30 % y alcanza una resolución ultraalta de 0,6 nm a 15 kV y 1,0 nm a 1 kV. Su alta resolución y estabilidad lo hacen ventajoso en la investigación avanzada de materiales nanoestructurales, así como en el desarrollo y la fabricación de chips de circuitos integrados semiconductores de nodos de alta tecnología.
¡No dude en contactarnos para obtener más detalles, solicitar una cotización o reservar una demostración en línea! Le responderemos tan pronto como podamos.
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